中微公司尹志尧：有信心开发出更具竞争力的刻蚀、薄膜、外延和电子束检测设备

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　　8月2日，中微公司（688012.SH，股价158.6元，市值985.39亿元）迎来成立20周年纪念日，并于临港产业化基地举行“20周年盛会华章暨临港基地落成庆典”。

　　中微公司董事长、总经理尹志尧在致辞中表示：“中微的MOCVD（金属有机化合物化学气相沉积）设备已经在全球碳化镓基LED（发光二极管）设备市场取得优势地位。最近两年开发的LPCVD（低压化学气相沉积）设备顺利进入了市场，一年左右我们得到了大量订单。”

　　尹志尧称：“为了尽快实现赶超，我们正在启动运行二十多个设备的开发项目。我们有信心，在将来开发出更具竞争力的刻蚀设备、薄膜设备、外延EPI（在衬底上生长出的半导体薄膜）设备和电子束检测设备。”

　　据悉，在集成电路产业飞速发展的浪潮中，中微公司以高端半导体设备为核心，坚持技术的创新、产品的差异化和知识产权的保护，不断开发具有市场竞争力的设备；同时，中微公司将整合产业链上下游和相关资源作为另一发力点，积极考虑投资和并购，推动公司更快发展。预计未来五到十年，中微公司将通过自主研发以及携手行业合作伙伴，覆盖集成电路关键领域50%至60%的设备。

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